其他餘熱噴塗工藝比較，具有以下優點：⑴噴塗效率高，可達3kg/h，沉積效率高 ，沉積效率為70%；冷噴塗塗層致密且氧化物含量低。⑵對基材熱影響小，晶粒生長速度較慢（有可能維持納米組織結構），接近鑄造組織（與傳統塗層相比硬度高），具有穩定的相結構和化學成分，基本不需要掩蔽，噴塗損失小，噴束寬度可調至小於3mm 。⑶塗層外形與基材表麵形貌保持一致，可達到高等級表麵粗糙度；噴塗間隔極短（可小於10mm）⑷塗層致密，可製備高熱傳導率、高導電率塗層，冷噴塗純銅塗層的導電率是90%火焰噴塗層和HVOF噴塗層的導電率小於50%。⑸氧化物含量低，冷氣噴塗氧化物含量僅為0.2%，粉末火焰噴塗的氧化物含量HVOF噴塗氧化物含量分別為1.1%和0.5% 。1頁
